Труды 4-й РНКТ (2006). Том 6. Дисперсные потоки и пористые среды. Интенсификация теплообмена

Васанова Л.К., Соколов А.В., Крашенинникова Т.В.
Исследование применения кипящего слоя в системах охлаждения полупроводниковых структур

Уральский государственный технический университет — УПИ, г. Екатеринбург, Россия

Аннотация

В работе на основе полученных экспериментальных данных проведено расчетное исследование эффективности охлаждения полупроводниковых приборов кипящим слоем. Для увеличения теплосъема поверхности радиаторов полупроводниковых приборов выполнены с оребрением в виде круглых ребер постоянной толщины. Предложена методика расчета температур стенки у основания ребра.

Заключение

Комбинацией параметров, влияющих на перенос теплоты с поверхности радиаторов полупроводниковых структур, и в зависимости от мощности, рассеиваемой в кипящий слой, можно обеспечить допустимые, по условиям надежной работы, температуры радиаторов. Изотермичность кипящего слоя и высокие значения коэффициентов теплоотдачи позволяют рассматривать эту систему охлаждения в качестве конкурентоспособной по сравнению с принудительным воздушным и водяным охлаждением.

Скачать/просмотреть текст доклада (в формате pdf)

Следующая страница: Василевский Э.Б., Яковлева Л.В. Исследование теплообмена в запыленном сверхзвуковом потоке при тангенциальном вдуве газа